Conceptos Básicos
在超解析度超聲定位顯微鏡 (ULM) 中,雖然誤報 (FP) 和漏檢 (FN) 都會影響成像品質,但與誤報相比,漏檢對結構相似性指標 (SSIM) 的影響更大,尤其是在 MB 稀疏區域和使用較高超聲頻率時,更需要精確的檢測閾值來減輕漏檢的影響。
研究背景
超解析度超聲成像技術,特別是超聲定位顯微鏡 (ULM),為微血管結構提供了高解析度的成像方法。然而,ULM 的成像品質很大程度上依賴於對微氣泡 (MB) 的精確檢測。儘管定位演算法至關重要,但對於 MB 檢測任務中的實際問題,例如設定檢測閾值,卻缺乏足夠的關注。
研究方法
本研究使用 IEEE UltraSR Challenge 提供的兩個不同中心頻率的模擬數據集,通過系統地向模擬數據添加受控的檢測錯誤(即誤報和漏檢),來研究誤報和漏檢如何影響 ULM 成像品質。
研究結果
結果表明,雖然誤報率和漏檢率都會影響峰值信噪比 (PSNR),但將誤報率從 0% 提高到 20% 會導致結構相似性指標 (SSIM) 下降 7%,而相同的漏檢率會導致 SSIM 下降約 45%。
MB 密集區域對檢測誤差的抵抗力更強,而稀疏區域則表現出較高的敏感性,這表明需要穩健的 MB 檢測框架來增強超解析度成像。
較高的超聲頻率雖然可以提高 SSIM 和 PSNR 指標,但同時也更容易受到漏檢的影響,導致成像品質下降。
研究結論
本研究強調了針對不同 MB 密度區域設定特定閾值以優化成像品質的必要性。
未來需要開發能夠適應圖像中區域密度變化的自適應檢測閾值方法。
對於需要高空間保真度的應用,例如密集的微血管成像,可以採用更高的頻率,同時通過先進的檢測演算法確保較低的漏檢率。
Estadísticas
將誤報率從 0% 提高到 20% 會導致結構相似性指標 (SSIM) 下降 7%。
相同的漏檢率會導致 SSIM 下降約 45%。