核心概念
フリップ3D集積化(F3D)は、フリップFET(FFET)構造、両面インターコネクト、両面モノリシック3D(M3D)を組み合わせることで、従来の3D集積化技術を超えたチップ集積密度を実現する。
要約
フリップ3D集積化(F3D):概要
本稿は、従来のムーアの法則の終焉に伴い、チップ集積密度を向上させるための新たな3次元集積化技術として、フリップ3D集積化(F3D)を提案する研究論文である。
従来のムーアの法則の限界により、半導体業界はチップ集積密度を向上させる新しい方法を模索しており、大きく分けて2つの技術ルートが存在する。
1つ目は、DTCOによる先進ロジック技術のスケーリングであり、CFET(Complementary FET)[1-3]や裏面(BS)インターコネクト[4-9]などの3次元トランジスタ積層へと進歩している。本論文では、3次元積層チャネルFETと両面インターコネクトを組み合わせたFFET(Flip FET)[10]を提案しており、図1に示すように、2次元および3次元トランジスタ集積化ロードマップにおいて優れた候補となっている。
2つ目は、3次元パッケージング[4,11]によって実現される3次元ダイスタッキングを含む3次元IC、またはモノリシック3次元集積化(M3D)[12-14]などの3次元ティアスタッキングである。
本論文では、FFETを拡張したウェーハ反転プロセスを繰り返し使用することから、フリップ3次元集積化(F3D)と呼ばれる新しい3次元集積化技術を提案する。F3Dは、3次元トランジスタ積層、3次元両面インターコネクト、3次元フェイスツーフェイス/バックツーバック/フェイストゥーバックダイスタッキング、両面M3Dを初めて統合したものである。