釕金屬及其氧化物因其優異的催化活性、在析氧反應 (OER) 中的穩定性以及良好的導電性,在電子和電催化領域中不可或缺。原子層沉積 (ALD) 作為一種新興的薄膜製備技術,具有原子級厚度控制、均勻性和保形性、氧化態精確控制以及低加工溫度等優點,因此適用於沉積用於不同應用的高性能過渡金屬及其氧化物。
本研究使用 ALD 在 300°C 下於二氧化鈦 (TiO2) (110) 基板上沉積釕金屬薄膜,並在空氣中以不同的升溫溫度 (400°C、500°C 和 600°C) 對沉積的釕薄膜進行退火處理,研究退火對其結構、形態和化學性質的影響。研究人員使用原子力顯微鏡 (AFM)、X 射線光電子能譜 (XPS)、X 射線繞射 (XRD) 和拉曼光譜對薄膜進行了系統表徵。
退火處理可以有效地將 ALD 沉積的釕金屬薄膜轉變為 RuO2,且退火溫度越高,RuO2 的結晶度越高,對水的吸附能力也越強。這些發現為電化學水分解應用中與表面化學相關的初始理解提供了依據。
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by S. S. Nalawa... om arxiv.org 10-31-2024
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