แนวคิดหลัก
부분 위상 반전을 사용한 다중 자체 루프 게으른 양자 걸음(MSLQW-PPI)을 통해 하이퍼큐브에서 인접한 마킹된 정점을 효율적으로 검색할 수 있으며, 이는 기존 알고리즘에 비해 성공 확률을 크게 향상시킵니다.
บทคัดย่อ
MSLQW-PPI를 이용한 하이퍼큐브상의 인접 마킹 정점 검색
본 연구 논문에서는 부분 위상 반전(PPI)을 사용한 다중 자체 루프 게으른 양자 걸음(MSLQW-PPI)을 하이퍼큐브에 적용하여 여러 인접 마킹 정점을 검색하는 방법을 분석합니다.
본 연구는 인접 마킹 정점을 포함한 다양한 시나리오에서 MSLQW-PPI의 효율성을 평가하고, 기존 양자 걸음 검색 알고리즘에 비해 성공 확률을 향상시키는 것을 목표로 합니다.
하이퍼큐브에서 인접 마킹 정점과 인접하지 않은 마킹 정점을 모두 포함하는 샘플과 인접 마킹 정점만 포함하는 샘플을 생성합니다.
각 샘플에 대해 다양한 수의 자체 루프(m)와 네 가지 자체 루프 가중치(l = n/N, l = (n/N) * k, l = n^2/N, l = (n^2/N) * k)를 사용하여 MSLQW-PPI를 30회 수행합니다.
각 시뮬레이션에서 최대 성공 확률을 측정하고, 비인접 마킹 정점의 상대적 위치에 따른 성공 확률의 변동 계수를 계산합니다.