この記事では、最新のコンピューターチップの内部構造を高解像度で3D撮影する新しい手法について説明している。従来の手法と比べて、この新しい手法は最大170倍高速で、4ナノメートルの記録的な解像度を実現している。
極端紫外線リソグラフィーなどの技術により、現代のコンピューターチップは非常に複雑かつ高性能になっている。しかし、チップの内部構造を非破壊的に撮影することは依然として課題であった。
新しい手法では、高速のX線バーストを使用することで、チップの内部構造を詳細に3D撮影できる。これにより、人工知能やオーグメンテッド・リアリティなどの技術の発展に不可欠な最新チップの特性を理解し、改善することが可能になる。
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從以下內容提煉的關鍵洞見
by Tais Gorkhov... 於 www.nature.com 07-31-2024
https://www.nature.com/articles/d41586-024-02377-7深入探究