核心概念
該研究開發了一種名為皮腔增強近場光學顯微鏡 (PE-SNOM) 的新技術,通過結合低溫超高真空環境下的等離子體皮腔和頻率調製原子力顯微鏡 (FM-AFM),實現了 1 奈米的超高光學解析度,突破了傳統光學顯微鏡的繞射極限,為單分子和原子尺度光學顯微鏡的發展鋪平了道路。
本研究論文發表了一種名為皮腔增強近場光學顯微鏡 (PE-SNOM) 的新型光學成像技術,該技術結合了多項先進技術,實現了 1 奈米的超高光學解析度,顯著超越了傳統散射式掃描近場光學顯微鏡 (s-SNOM) 的極限。
研究背景
傳統光學顯微鏡受限於光的繞射極限,解析度難以突破數百奈米。近年來,s-SNOM 技術利用探針尖端增強的近場光來突破繞射極限,實現了數十奈米的解析度,但仍無法滿足單分子和原子尺度觀測的需求。
技術突破
為進一步提升光學解析度,本研究團隊開發了 PE-SNOM 技術,其關鍵創新點包括:
**等離子體皮腔:**利用聚焦離子束 (FIB) 精細加工的銀探針尖端,在低溫超高真空環境下形成穩定的等離子體皮腔,將光場局域在原子尺度範圍內。
**頻率調製原子力顯微鏡 (FM-AFM):**採用石英音叉 (QTF) 感測器作為微懸臂,實現振幅小於 1 奈米的穩定振盪,提高了對高度局域化信號的靈敏度。
**高次諧波鎖相檢測:**通過對散射光信號進行高次諧波鎖相檢測,有效抑制背景雜訊,提取出皮腔增強的近場光信號。
研究成果
研究團隊利用 PE-SNOM 技術成功獲得了銀 (Ag) 表面上矽 (Si) 島的材料對比度圖像,解析度高達 1 奈米。通過對比不同諧波信號的成像結果,證實了高次諧波信號對皮腔增強近場光具有更高的靈敏度。此外,通過線掃描分析,證實了 PE-SNOM 技術的橫向解析度優於 STM。
研究意義
PE-SNOM 技術的成功開發為在原子尺度上進行光學成像和光譜分析提供了新的途徑,有望應用於單分子、單缺陷的光物理性質研究以及原子級別界面光學性質的表徵等領域。
統計資料
PE-SNOM 技術實現了 1 奈米的橫向解析度。
傳統 s-SNOM 的解析度通常限制在數十奈米。
在 633 奈米波長下,由於介電常數的差異,銀在 s-SNOM 中的散射強度大於矽。