核心概念
本文推導出廣義傅立葉繞射定理,建立了散射波測量值與散射勢重建之間在傅立葉域中的精確關係,並提出基於該定理的濾波反投影公式,適用於廣泛的斷層掃描成像實驗設置。
本文探討了以散射勢為特徵的物體的繞射斷層掃描重建。我們建立了任意維度傅立葉繞射定理的嚴格推廣,給出了散射波測量值與散射勢重建之間在傅立葉域中的精確關係。利用該定理,我們研究了不同實驗設置的傅立葉覆蓋範圍,考慮了物體方向、入射方向和照明頻率等參數。允許這些參數同時和不連續地變化,我們推導出一個通用的濾波反投影公式,從而得到一大類實驗設置下散射勢的顯式近似。
亥姆霍茲方程
我們考慮 Rd 中亥姆霍茲方程的反源問題:
(∆ + k²₀)u = g,
其中 k₀ 為正常數,g 為具有緊支撐的可積函數。給定唯一外向解 u 的測量值,目標是重建 g。
傅立葉繞射定理
我們的首個結果將 g 的傅立葉變換與限制在超平面上的 u 的傅立葉變換聯繫起來,可以看作是著名的傅立葉繞射定理的推廣。設 ˜F : S(ℝᵈ) → S(ℝᵈ) 為沿前 pd-1 個坐標的偏傅立葉變換。則 ˜Fu 是一個局部可積函數,由以下公式給出:
˜Fu(x, rM) = (cπ/2i/κ)(e^(iκrM)F(1 - 1_{E_{rd}})g(h⁺(x)) + e^(-iκrM)F(1_{E_{rd}}g)(h⁻(x))),
其中 x ∈ ℝ^(d-1), rM ∈ ℝ, κ = κ(x) 是 k²₀ - |x|² 的主平方根,F 是 ℝᵈ 上的傅立葉變換,解析延拓到 |x|² > k²₀ 時的 ℂᵈ。函數 g⁺ 和 g⁻ 定義為:
g⁺(r) = g(r) if rd ≥ rM and g⁺(r) = 0 otherwise.
假設在超平面 {r ∈ ℝᵈ : rd = rM} 上測量 u,則 (1.2) 將數據的空間頻率分量與 g⁺ 和 g⁻ 的空間頻率分量聯繫起來。
繞射斷層掃描
亥姆霍茲方程 (1.1) 是時諧波 U(r, t) = Re(u_tot(r)e^(-iωt)) 從有界不均勻性散射的模型。假設波的運動是由入射場 u_inc 引起的,該入射場在遇到散射體之前在均勻背景中傳播,則所得散射場 u_sca = u_tot - u_inc 的常用模型為:
(∆ + k²₀)u_sca = k²₀f u_tot.
此外,u_sca 滿足索末菲輻射條件。在這種情況下,k₀ > 0 是入射場 u_inc 的波數,假設其滿足 ∆u_inc + k²₀u_inc = 0,歸一化散射勢 f 由下式給出:
f(r) = (n(r)²/n²₀) - 1, r ∈ ℝᵈ,
其中 n 是折射率。在有界不均勻性之外,我們有 n(r) = n₀,因此 f 是緊支撐的。通常,f 具有非零虛部以允許吸收。
玻恩近似和 Rytov 近似
該散射模型的兩個常見簡化是玻恩近似和 Rytov 近似,每個都導致形式為 (1.1) 的方程。一階玻恩近似忽略了 (1.3) 右側的項 k²₀f u_sca,其形式為:
(∆ + k²₀)u_sca = k²₀f u_inc.
一階 Rytov 近似基於 u_tot = u_inc e^φ 的 Ansatz,其中 φ 為複雜的相位函數,並導致:
(∆ + k²₀)(u_inc φ) = k²₀f u_inc.
傅立葉繞射斷層掃描
在這個框架內,繞射斷層掃描的反問題可以表述如下:給定入射場 u_inc 的知識以及在 ℝᵈ 中超平面上的散射波測量值,基於 (1.5) 或 (1.6) 恢復散射勢 f。
濾波反投影
濾波反投影是繞射斷層掃描中的一種重建算法,它提供了一個顯式重建公式。其思想是首先應用坐標變換,然後使用傅立葉繞射定理 (1.7) 用測量值 u 的空間頻率分量替換 f 的空間頻率分量。這種方法的一個問題是坐標變換通常遠非單射。因此,為了將濾波反投影公式正確地擴展到本文提出的通用設置,必須通過 Banach 特徵函數來考慮缺乏單射性的問題。雖然 Banach 特徵函數通常難以確定,但我們建議使用數值程序來估計它。
缺失錐問題
另一個問題,不僅是濾波反投影,而且通常是繞射斷層掃描方法,是缺失錐問題。這是觀察到對於許多實驗設置,傅立葉覆蓋範圍在靠近原點的地方有明顯的錐形孔。因此,f 的大部分低空間頻率無法用於重建,從而導致結果不佳。缺失錐問題可以通過例如在多個軸上連續旋轉物體或在旋轉過程中從多個方向依次照射來克服。為了將得到的測量值正確地合併到單個反投影公式中,我們允許函數 R(t), s(t) 和 k₀(t),以及 T,具有跳躍不連續性。