核心概念
本文提出了一種新的密度剖面,用於描述具有自交互作用暗物質 (SIDM) 的暈,該剖面能準確地捕捉平坦和等溫核心的形態。
標題:適用於具有等溫核心的暗物質暈的全新密度剖面
作者:Vinh Tran, Xuejian Shen, Mark Vogelsberger, Daniel Gilman, Stephanie O’Neil, and Jiarun Gao
出版日期:2024 年 11 月 18 日
本研究旨在提出一個新的密度剖面,用於描述具有自交互作用暗物質 (SIDM) 的暈,並驗證其在模擬 SIDM 暈演化過程中的有效性。