本文介紹了一種新的光控制門極的方案,用於在液氦溫度下對雙門控石墨烯異質結構進行片上太赫茲光譜學測量。
首先,作者設計了一種器件結構,在石英基板上集成了太赫茲發射器、雙門控石墨烯樣品和太赫茲接收器。石墨烯樣品由上下兩層WS2作為門極,中間夾有石墨烯層。
為了抑制門極層對太赫茲信號的吸收,作者提出了一種光控制門極的新方案。在光照下,WS2門極層會變導電,可以對石墨烯施加電場。但在光照關閉後,WS2層中的載流子會被陷阱捕獲,導電性大幅降低,從而不會對太赫茲信號產生干擾。
利用這種光控制門極的方案,作者成功測量了雙門控石墨烯的光學電導率光譜。通過對時域太赫茲信號進行傅里葉變換,並與參考信號進行比較,可以提取出石墨烯的複雜光學電導率。實驗數據符合Drude模型,作者還提取出了有效質量和散射時間等關鍵參數。
這項工作為研究二維材料中的相關和拓撲電子物理提供了新的光譜學工具。該方法可以直接探測亞毫電子伏特量級的能隙,並研究奇異金屬等新興量子現象。未來它還可以應用於掃描單電子晶體管和微波阻抗顯微鏡等其他先進光譜和顯微技術。
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