本研究では、従来のセキュリティホログラムと同様に大量生産が可能な光セキュリティ要素(OSE)を提案している。OSEは、ホログラフィック複製が不可能な、ランダムな粗い表面の位相リリーフを含んでいる。
実験では、テフロン板の粗い表面からポリマー複製を作製し、これらの複製から生成されるスペックルパターンの相関解析を行った。同一の粗い表面から作製した複製では高い相関が得られるのに対し、異なる粗い表面からの複製では相関が低いことを示した。これにより、OSEの真正性を識別できることを実証した。
さらに、OSEの構造として、視覚的に識別可能な3次元リリーフと、ランダムな微細リリーフを組み合わせる方法を提案した。視覚的な識別に加えて、スペックルパターンの相関解析によって真正性を確認できる。
OSEの大量生産については、従来のセキュリティホログラムの複製技術を応用できると述べている。また、OSEの接触複製や写真複製を防ぐための方法についても言及している。
A otro idioma
del contenido fuente
arxiv.org
Ideas clave extraídas de
by A.M. Smolovi... a las arxiv.org 04-16-2024
https://arxiv.org/pdf/2404.08723.pdfConsultas más profundas