本研究では、添加製造(AM)された純銅電極の高電界特性を評価した。CERN の高電圧パルス DC システムを使用して、表面粗さの大きな AM 製造の純銅電極に対して高電界試験を行った。
試験では、電極間ギャップを270 μmと115 μmの2つのケースで評価した。
これらの結果は、AM技術が加速器部品製造に有効な候補であることを示している。表面粗さや材料特性が高電界特性の主な制限要因と考えられる。今後、より小さなギャップでの試験や、表面仕上げ処理を施したAM電極の評価を行う必要がある。
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by A. Ratkus, T... a las arxiv.org 10-03-2024
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