Conceptos Básicos
本研究では、t¯tZ生成過程の高次ソフトグルーオン補正を計算し、精密な断面積予測を行った。
Resumen
本研究では、t¯tZ生成過程の高次ソフトグルーオン補正を計算した。
- 次の通り、高次の補正を順次加えていった:
- NLO QCD
- NLO QCD + NLO EW
- aNNLO QCD
- aNNLO QCD + NLO EW
- aN3LO QCD
- aN3LO QCD + NLO EW
- 高次の補正は大きく、LO QCDに対して最大52%の増加となった。
- 理論予測は、LHCの測定値と良い一致を示した。
- トップクォークのpTおよび rapidity分布も計算し、高次補正の大きな影響を明らかにした。
Estadísticas
LO QCDの断面積は13.6 TeVで742 fbである。
aN3LO QCD + NLO EWの断面積は13.6 TeVで1125 fbであり、LO QCDに対して52%増加している。
トップクォークのpTが50 GeVでのK因子は最大1.82に達する。
トップクォークの rapidityが3でのK因子は最大1.80に達する。
Citas
"高次の補正は大きく、LO QCDに対して最大52%の増加となった。"
"理論予測は、LHCの測定値と良い一致を示した。"