Dieser Übersichtsartikel bietet eine umfassende Überprüfung der Methoden, die maschinelle Lernklassifizierungstechniken für die Identifizierung von Waferdefekten in der Halbleiterherstellung nutzen.
Diese Studie bietet einen umfassenden Überblick über Methoden des maschinellen Lernens zur Identifizierung von Defekten auf Halbleiterwafers. Sie analysiert die Vor- und Nachteile sowie potenzielle Anwendungen verschiedener Klassifizierungsalgorithmen.