Core Concepts
본 연구는 CsSnI$_3$ 페로브스카이트의 p형 자가 도핑 문제를 해결하기 위해 밀도범함수 이론(DFT)과 머신러닝(ML)을 결합하여 치환 도펀트의 형성 에너지 및 전하 전이 레벨을 예측하는 모델을 개발하고, 도핑을 통한 결함 엔지니어링 가능성을 제시합니다.
Abstract
CsSnI$_3$의 결함 형성에 대한 밀도범함수 이론 및 머신러닝 연구 논문 요약
본 연구는 차세대 태양 전지 소재로 주목받는 할라이드 페로브스카이트 중 저독성 소재인 CsSnI$_3$의 성능 향상을 위해 DFT 계산과 ML을 결합한 연구를 수행했습니다. CsSnI$_3$는 높은 PCE를 가진 CsPbI$_3$ 대비 낮은 PCE (14.8%)를 보이는데, 이는 p형 자가 도핑 및 결함으로 인한 비방사 재결합 때문입니다. 본 연구에서는 도핑을 통한 결함 엔지니어링으로 이러한 문제를 해결하고자 하였습니다.
본 연구에서는 HSE06+SOC를 사용한 DFT 계산을 통해 CsSnI$_3$에서 Sn 자리 및 Cs 자리를 치환하는 25개 및 15개의 도펀트에 대한 형성 에너지(Ef) 및 전하 전이 레벨(CT) 데이터 세트를 생성했습니다. 이후 선형 회귀(LR), 가우시안 프로세스 회귀(GPR), 커널 릿지 회귀(KRR) 및 랜덤 포레스트 회귀(RFR) 등의 ML 알고리즘을 사용하여 도펀트의 형성 에너지 및 전하 전이 레벨을 예측하는 모델을 학습시켰습니다. 모델 학습에는 산화 상태, 전기 음성도, 이온화 에너지, 밀도, 원자 반지름 등 도펀트의 원자 및 벌크 특성을 나타내는 11가지 특징을 사용했습니다.