核心概念
GauStudioは、3D Gaussian Splattingのための高度にモジュール化されたフレームワークであり、さまざまなシーンモデリングタスクに適応可能な、カスタマイズ可能なパイプラインを提供する。
要約
GauStudioは、3D Gaussian Splattingのための包括的かつカスタマイズ可能なプラットフォームである。主な特徴は以下の通り:
モジュール化されたアーキテクチャ: 異なるコンポーネント(前景モデル、背景モデル、その他のモジュール)を柔軟に組み合わせ、置き換えることができる。これにより、ユーザーが特定のシーンやタスクに合わせて最適なパイプラインを構築できる。
包括的なステージ: 初期化、最適化、エンハンスメント、圧縮など、3D Gaussian Splattingのための主要なステージがすべて実装されている。各ステージは完全にカスタマイズ可能である。
効率的なメッシュ抽出: GauSと呼ばれる新しいメッシュ抽出モジュールを提供し、3D Gaussianから高品質なテクスチャ付きメッシュを効率的に生成できる。
ハイブリッド表現: 前景のGaussianモデルと背景のスカイボールモデルを組み合わせることで、屋外シーンの表現能力を向上させている。
幅広いアプリケーション: GauStudioは、シーン再構築、編集、シミュレーション、経路計画など、さまざまな3Dシーンモデリングタスクに適用できる。
統計
3D Gaussianの平均位置μ、不透明度σ、共分散行列P、および角度依存色の球面調和係数Cで表現される。
3D Gaussianの投影と体積レンダリングを組み合わせて、ビュー依存の色と密度を計算する。