제안된 에너지 기반 보정 VAE(EC-VAE) 모델은 VAE의 생성 방향을 개선하여 고품질의 이미지를 생성할 수 있습니다. EC-VAE는 조건부 에너지 기반 모델(EBM)을 활용하여 VAE의 생성 방향을 보정하며, 테스트 시 MCMC 샘플링이 필요하지 않습니다.
