이 논문에서는 탄소 나노막(CNM)과 그래핀의 영률을 측정하기 위해 세 가지 다른 방법론을 사용하였다.
첫 번째 방법은 스케일링 접근법으로, 포텐셜 에너지의 곡률로부터 영률을 계산한다. 이 방법은 결정성 구조에 대해서는 잘 작동하지만, 무질서한 CNM 구조에 대해서는 실험값보다 훨씬 높은 영률을 예측하였다.
두 번째 방법은 응력-변형률 방법으로, 실험적 인장 실험을 모방한다. 이 방법은 결정성 구조와 무질서한 구조 모두에 대해 잘 작동하였다. 그래핀의 경우 약 854 GPa의 영률을, CNM1과 CNM2의 경우 각각 약 36 GPa과 36 GPa의 영률을 얻었다.
세 번째 방법은 바로스태팅 동역학 방법으로, 온도와 압력 변화에 따른 영률을 계산할 수 있다. 이 방법 역시 결정성 구조와 무질서한 구조 모두에 대해 잘 작동하였다. 그래핀의 경우 약 854 GPa의 영률을, CNM1과 CNM2의 경우 각각 약 33 GPa과 31 GPa의 영률을 얻었다.
이 연구를 통해 응력-변형률 방법과 바로스태팅 동역학 방법이 결정성 및 무질서한 구조의 영률 측정에 적합한 것으로 나타났다. 반면 스케일링 접근법은 무질서한 구조에 대해 부정확한 결과를 보였다.
To Another Language
from source content
arxiv.org
Önemli Bilgiler Şuradan Elde Edildi
by L. Mihlan, J... : arxiv.org 10-03-2024
https://arxiv.org/pdf/2410.01461.pdfDaha Derin Sorular