이 논문에서는 탄소 나노막(CNM)과 그래핀의 영률을 측정하기 위해 세 가지 다른 방법론을 사용하였다.
첫 번째 방법은 스케일링 접근법으로, 포텐셜 에너지의 곡률로부터 영률을 계산한다. 이 방법은 결정성 구조에 대해서는 잘 작동하지만, 무질서한 CNM 구조에 대해서는 실험값보다 훨씬 높은 영률을 예측하였다.
두 번째 방법은 응력-변형률 방법으로, 실험적 인장 실험을 모방한다. 이 방법은 결정성 구조와 무질서한 구조 모두에 대해 잘 작동하였다. 그래핀의 경우 약 854 GPa의 영률을, CNM1과 CNM2의 경우 각각 약 36 GPa과 36 GPa의 영률을 얻었다.
세 번째 방법은 바로스태팅 동역학 방법으로, 온도와 압력 변화에 따른 영률을 계산할 수 있다. 이 방법 역시 결정성 구조와 무질서한 구조 모두에 대해 잘 작동하였다. 그래핀의 경우 약 854 GPa의 영률을, CNM1과 CNM2의 경우 각각 약 33 GPa과 31 GPa의 영률을 얻었다.
이 연구를 통해 응력-변형률 방법과 바로스태팅 동역학 방법이 결정성 및 무질서한 구조의 영률 측정에 적합한 것으로 나타났다. 반면 스케일링 접근법은 무질서한 구조에 대해 부정확한 결과를 보였다.
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Ключові висновки, отримані з
by L. Mihlan, J... о arxiv.org 10-03-2024
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