Основні поняття
Si(111) 기판에서 고품질의 크랙 없는 ScxAl1-xN 박막을 성장시키기 위해서는 성장 온도 제어가 중요하며, 특히 Sc 함량이 증가할수록 낮은 성장 온도가 요구된다.
Анотація
ScxAl1-xN 박막 성장에 관한 연구 논문 요약
Dinh, D. V., Chen, Z., & Brandt, O. (2024). Crack-free ScxAl1−xN(000¯1) layers grown on Si(111) by plasma-assisted molecular beam epitaxy. arXiv preprint arXiv:2411.14872v1.
본 연구는 플라즈마 보조 분자선 에피택시(PAMBE)를 사용하여 Si(111) 기판에 ScxAl1-xN 박막을 성장시킬 때, 성장 온도가 박막의 상 순도 및 구조적 완성도에 미치는 영향을 조사하는 것을 목적으로 한다.