高温拡散を利用したTi-O系エピタキシャル薄膜の合成と制御

本研究では、レーザー加熱を用いた高温分子線エピタキシー法により、基板からの酸素拡散を利用した新規の酸化チタン薄膜合成法を開発し、従来法よりも高品質で制御性の高いエピタキシャル薄膜成長を実現した。