本研究では、ATLAS新小型ホイールプロジェクトで使用されるマイクロメガス検出器の抵抗ストリップ上の表面電荷の拡散と、それによって生成される過渡電界の特性を解析した。
主な内容は以下の通り:
抵抗ストリップ上の表面電荷の拡散メカニズムを解析し、時間および空間に対する電荷密度の変化を明らかにした。小さな時間領域では解析解を、大きな時間領域ではガウス近似を用いて表現した。
抵抗ストリップ上の表面電荷の拡散を伝送線路モデルで近似し、拡散定数と表面抵抗率の関係を導出した。これにより、読み出しストリップ間の誘導電荷の時間変化を計算した。
表面電荷の拡散によって生成される過渡電界の空間分布を計算した。特に、増幅領域の一定電界と逆向きの Ez成分に着目し、その時間・空間変化を明らかにした。
マイクロメッシュの影響を2層モデルと3層モデルで検討し、過渡電界への影響を定量化した。
以上の解析により、マイクロメガス検出器におけるスパーク抑制メカニズムの理解が深まった。
A otro idioma
del contenido fuente
arxiv.org
Ideas clave extraídas de
by Theodoros Al... a las arxiv.org 10-01-2024
https://arxiv.org/pdf/2409.19297.pdfConsultas más profundas